Тендер № 344348582: Запрос предложений на выполнение исследования подложек, эпитаксиальных слоев и SiGe-гетероструктур для формирования требований к базовым полупроводниковым приборным гетероструктурам в составе составной части научно-исследовательской работы «Моделирование и экспериментальная апробация конструкции установки для выращивания слоёв SiGe методом газофазной эпитаксии на кремниевых пластинах диаметром 200 мм» согласно ТЗ (ЗД №125)

;